P.6.1.3.2 作業手順

1）地下埋設物（管路）モデル（LOD2）の作成

1. 管路の中心線を取得する。
   地下埋設物（管路）モデル（LOD1）の正射影から地表面の標高をもつ中心線を取得する。

2. 中心線の高さを管路の中心の高さに設定する。
   管路の単位ごとにa）で取得した中心線の垂直位置を地下埋設物（管路）モデル（LOD1）の垂直位置の上端を起点とする地中方向に土被りと半径（円形管ではない場合は外形の半分の高さ）を加算した管路の中心の高さに設定する（ 図P-23）。

   

   中心線の高さは、土被りの計測位置を変化点として結線する（図P-31）。

   

   土被り情報が無い管路は、隣接する管路の土被りを採用する（図P-25）。

   

   土被りが管路の一部または全部の区間に設定される場合は、当該区間の両端を計測地点として土被り情報を付与する（図P-26）。

   

3. 地下埋設物（管路）モデル（LOD2）を作成する
   b）で垂直位置を設定した中心線と管路の外径から作成される立体モデルを、地下埋設物（管路）モデル（LOD2）とする（ 図P-27）。管路の外径が不明な場合は、管路の種類及び内径から外径を推定する。

   

   土被り推定地を含む地下埋設物（管路）モデル（LOD2）の取得方法を図P-28に示す。

   

   土被りが区間で計測されている場合の地下埋設物（管路）モデル（LOD2）の取得方法を図P-29に示す。

   

地下埋設物（管路）モデル（LOD2）と地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）又は地下埋設物（制御設備）モデル（LOD2）を構成する面が交差する場合は、以下の手順に従い、交差する地下埋設物（管路）モデルを削除する。

1. 地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）又は地下埋設物（制御設備）モデル（LOD2）の外周と、地下埋設物（管路）モデル（LOD2）の上からの正射影との交点を結ぶ位置で地下埋設物（管路）モデル（LOD2）を区切る。

2. 区切られた地下埋設物（管路）モデル（LOD2）のうち、地下埋設物モデル（マンホール）又は地下埋設物モデル（制御設備）に内包される部分を取り除く。

地下埋設物（管路）モデル（LOD2）の取得イメージを図P-31に示す。

地下埋設物（管路）モデル（LOD2）の作成例を図P-32に示す。

2）地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）の作成

1. マンホールの正射影を取得する。
   原典資料からマンホール及びハンドホールの縦横断形状の外周の正射影を取得する。
   または、マンホール及びハンドホールの中心位置と、マンホール及びハンドホールの種類から定まる外径を用いて外周の正射影を推定する。

2. 地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）の垂直位置の上端を決める。
   マンホールの単位ごとにa）の正射影と地表面の標高を重ね合わせ、最も低い標高を地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）の垂直位置の上端とする。

3. 地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）の垂直位置の下端を決める。
   b）で決めた地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）の垂直位置の上端を起点として、断面図等の原典資料から取得した高さを地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）の垂直位置を下端とする。

4. 地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）を作成する。
   a）の正射影、b）の上端、c）の下端で構成される立体モデルを、地下埋設物（マンホール）モデル（LOD2）とする（ 図P-33）。

3）地下埋設物（制御設備）モデル（LOD2）の作成

1. 地下埋設物（制御設備）モデル（LOD2）の垂直位置の上端を決める。
   制御設備の単位ごとに断面図面等の原典資料から取得するバルブ等の設備の垂直位置の最高の高さを地下埋設物（設備）モデル（LOD2）の垂直位置の上端とする。

2. 地下埋設物（設備）モデル（LOD2）を作成する。
   地下埋設物（設備）モデル（LOD1）の上端の位置をa）で取得したバルブ等の制御設備の高さに変更し、地下埋設物（設備）モデル（LOD2）とする（ 図P-34）。バルブ等の制御設備の最高の高さは制御設備の断面図から特定する。

地下埋設物（制御設備）モデル（LOD2）の作成例を図P-35に示す。